首页 » 应用&方案 » 应用&方案 » 质谱分析仪在半导体制造过程的应用

质谱分析仪在半导体制造过程的应用

浏览数量: 128     作者: 本站编辑     发布时间: 2024-03-19      来源: 本站

["facebook","twitter","line","wechat","linkedin","pinterest","whatsapp"]

质谱技术是一项基于质量分析的技术,可以对物质的组成、结构、分子量以及化学反应的过程进行研究和分析。在半导体制程中,质谱技术可以应用于材料的组成分析、杂质的检测、表面反应的研究、材料表征、晶圆的污染检测等方面。


质谱技术在半导体制程中的具体应用

1. 材料组成分析

质谱技术能够对材料中的原子、分子、离子等组成进行分析,为制程控制提供精确的数据。在半导体制程中,质谱技术可以用于分析化学气相沉积(CVD)制备的薄膜中的元素和杂质含量等。

2. 表面反应研究

在半导体加工过程中,表面化学反应是一个关键的环节。质谱技术可以对表面反应进行在线监测和分析,分析得到的数据可以用于控制和优化表面反应制程。

3. 材料表征

质谱技术可以用于检测材料的分子量、分布以及化学结构等。通过分析样品分子中的离子信号,可以得到样品的分子结构信息,从而确定材料的化学成分。

4. 晶圆污染检测

晶圆污染是半导体加工中的一个重要问题。质谱技术可以对晶圆的污染物进行在线检测,精确检测晶圆表面的化学成分,提供有关晶圆表面的化学信息,用于晶圆的污染检测。

质谱技术在半导体制程中应用广泛,在材料组成分析、表面反应研究、材料表征以及晶圆污染检测等方面都有不可替代的作用,是半导体制程中的重要工艺之一。

上海爱柯锐推出不同应用的过程质谱仪,应用于半导体的不同工艺;


PGA

具备轻巧便携和卓越性能的便携式气体分析仪



特种气体分析

-高真空环境过程测试

-泄漏分析

-特气钢瓶除杂监控

-清洗工艺监控


半导体过程分析

适配用于 MBE、Coating、PVD 等半导体工艺的过程监控器。

-  化学气相反应;

-  腔体泄漏分析;

-   鉴别痕量污染物;

-   渗透率测试;




残余气体分析

-高真空腔体分析检测

-大小型真空室的本底气体分析

-高真空除杂残余气氛测试



MLS211

多功能气体检测分析专家

Multi-functional gas detection and analysis expert


广泛的应用

介电刻蚀 金属刻蚀
CVD 监测 洁净度检测
腔室匹配 高纵横比蚀刻
原子沉积 原子刻蚀
自由基测试


实时过程控制的通用检测分析工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝

半导体制造的分子分析原位平台

提供实时, 可操作的数据

采用双Ir灯丝, 更耐用


BLD-02

移动式气体检测分析专家

CT的创新技术旨在大幅提高气体过程检测分析仪的易用性、性能和可靠性,使您高枕无忧,代表了我们持久专注气体快速分析的技术的新成果。

气体检测从未如此简单 

简便易用的设计,对于大多数常见应用(气体的定性定量分析、气体过程分析、特种泄漏检测等)

用户可以根据自己的实际情况,配置连接方式、正确设置参数。

直观的触摸屏界面为操作人员、工艺工程师和维护技术人员提供便捷的操作菜单。

卓越的使用维护成本、优异的实际应用性能,易用便捷等优势。


OGMS

客制化的放气率系统,用于复杂产品的清洁度验证

我们关注高水平的产品清洁度分析测试

我们的专业质量保证的关键在于在高真空条件下使用质谱法正确测定脱气率。

我们正在扩展残余气体分析的产品组合,以提供更高水平的价值创造,从而增加客户的利益

模块化的质谱系统,可满足各种测试要求


应用领域

半导体材料的洁净度检测

材料清洁监控

材料放气率测试


应用咨询和服务

应用咨询

ACT应用工程师将分析您的应用并就如何优化气体分析测试给出建议


服务和支持选项

-ACT拥有由专业服务人员组成的全球网络资源以及各种支持选项 

-实现您的需求

– 提高工作效率

– 确保您的仪器完全满足各种复杂的应用


订阅我们的新闻
订阅我们促销的新产品和活动,发到您的邮箱。

快速链接

产品分类

联系我们
上海市闵行区都会路99号赐方园区2号楼
sales@act-mass.com
 15800538201
 15800538201(微信同号)
版权所有© 上海爱柯锐科技有限公司.  网站地图
ICP备案/许可证号: 沪ICP备2024064503号-1